Research Catalog

Dark matter : Thomas Ruff, James Welling

Title
  1. Dark matter : Thomas Ruff, James Welling / Herausgeberin, Christina Végh ; Autor*innen, Benedikt Farnschon [and four others].
Published by
  1. Köln : Snoeck Verlagsgesellschaft mbH, [2023]
  2. ©2023

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FormatBook/TextAccessUse in libraryCall numberTR646.G32 B543 2023gItem locationOff-site

Details

Additional authors
  1. Végh, Christina
  2. Fahrnschon, Benedikt, 1986-
  3. Ruff, Thomas, 1958-
  4. Welling, James.
  5. Kunsthalle Bielefeld, host institution.
Description
  1. 88, 88 pages : illustrations (chiefly color), portraits; 27 cm
Summary
  1. Thomas Ruff (*1958) und James Welling (*1951) gehören zu den bekanntesten Fotokünstlern der Gegenwart. In ihren Werken ­erforschen sie die Bedingungen der visuellen Wahrnehmung, auch in Bezug auf unseren ­Einsatz der fotografischen Apparatur, und die Konditionierung unserer Sicht auf die Welt durch fotografische Bilder. Die Ausstellung »Dunkle Materie. Thomas Ruff und James Welling« und der gleichnamige Begleitkatalog konzentrieren sich auf Arbeiten, die dem fotografischen Bild neue Möglichkeiten abringen und unser Vorstellungsvermögen erweitern. Wir nehmen unsere Umwelt subjektiv wahr, wir sehen und fühlen sie vor dem Hintergrund dessen, was wir in tradierten Bildern und Wörtern fassen und verstehen ­können. Rund achtzig Prozent der Materie im ­Universum bestehen aus einem Stoff, den wir nicht kennen: Dunkle Materie. Verhält es sich ­ähnlich mit dem fotografischen Bild? Verbirgt es mehr, als es zeigt?
Uniform title
  1. Dark matter (Snoeck Verlagsgesellschaft mbH)
Alternative title
  1. Thomas Ruff, James Welling
Subject
  1. Ruff, Thomas, 1958- > Exhibitions
  2. Welling, James > Exhibitions
  3. Photography, Artistic > Exhibitions
Genre/Form
  1. Exhibition catalogs.
Call number
  1. TR646.G32
Owning institution
  1. Columbia University Libraries
Note
  1. Bound têt-bêche.
  2. This catalogue is published on the occasion of the exhibition DARK MATTER. Thomas Ruff, James Welling held at Kunsthalle Bielefeld, November 5, 2022-March 5, 2023.
Bibliography (note)
  1. Includes bibliographical references.
Language (note)
  1. Text in German and English.